IGZO显示屏技术
IGZO(Indium Gallium Zinc Oxide)为铟镓锌氧化物的缩写，非晶IGZO材料是用于新一代薄膜晶体管技术中的沟道层材料,是金属氧化物(Oxide)面板技术的一种。IGZO材料由日本东京工业大学细野秀雄最先提出在TFT行业中应用。
IGZO 有什么特点?
高透明性、透光率是 IGZO 面板的关键特征和最大优点。
在 IGZO 面板中，液晶伴随 LCD 或 OLED 层上的每个像素，因此可以将其打开或关闭。制作这些液晶单元的性能和尺寸也决定了面板本身的性能和质量，尤其是透明度，决定了光线投射到液晶分子上的能耗和效率。
非晶硅制成的单元，称为 aSi 或 a-Si，这种材料不透明，字面上会阻挡部分光。就其本身而言，IGZO 面板已设法使该液晶单元小型化，加上它是高度透明的，所以允许更多的光通过且 " 阻力 " 更小，减少光通量的损失(夏普声称是普通工艺的 20 倍)，提高响应速度和刷新率。
这种面板的另一个优点是它具有与非晶硅面板相比，30 至 50 倍电子迁移率。较高的电子迁移率意味着相同电导率所需的质量较小，从而可以大大减小像素尺寸，以提供更高的分辨率，实现更高像素密度：传统液晶屏幕像素密度为 468ppi，而 IGZO 面板已经达到了 736 ppi 的密度，可以实现同样面板尺寸下相对普通面板的双倍分辨率。因此，它得到了苹果手机、平板、笔记本电脑产品的特别偏爱。
第三，IGZO 面板耗电低、发热小，这也是由于它们体积小和高透光率实现的。
第四，IGZO 面板的另一个优点是触碰噪音影响小。在触摸屏上，这意味着更高的灵敏度和精度。手指触摸时，基于 IGZO 的触摸屏所产生的屏幕信号噪声非常短暂，幅度很小，即使是最弱的触摸屏也可以进行更准确的检测。对于手机屏幕的精准触控十分有用。
IGZO 面板(右)在人手指触碰时引起的信号噪音扰动比传非晶硅面板小得多
最后是超薄特性，改用 IGZO 后 TFT 内的元件可以造得更细更小，在同一的面积下，原先只能够容纳一组 a-Si 非晶硅的 TFT，但因为 IGZO 技术令 TFT 部份更精细，因此能够容纳 4 组 IGZOTFT ，显示不同的色彩及像素点，从而可以把面板和显示器造得更薄，或者在同样厚度尺寸下，实现更丰富的色彩表现和分辨率——例如，IGZO 面板可以轻易实现 80%+，最高 99%~100% 的 Adobe RGB 色域。
由于这些特点，IGZO 面板技术成为了高精细度屏幕、柔性屏幕和大尺寸 OLED 屏幕最佳的工艺伴侣。
igzo是什么型半导体
IGZO是一种新型半导体材料,是背板材料技术的一种。电子迁移率相对于传统的非晶硅更高的。芯片材料的电子迁移率越高则器件信息传输量越大，可使用更窄的通道传递信息,实现更高的分辨率，并具有高亮度、低功耗、窄边框的优势。
LTPS、IGZO、OLED哪个更好
TFT(Thin Film Transistor)是指薄膜场效应晶体管，TFT液晶屏幕就是指液晶面板上的每一液晶象素点都是由集成在其后的薄膜晶体管来驱动，也就是曾经在手机领域上经常听到的“TFT屏幕”。常见的TFT驱动分类主要有a-Si TFT(非晶硅)、LTPS TFT(低温多晶硅)，IGZO TFT也属于这一范畴。所以说到底，夏普这次所提出的IGZO面板，仍然是一种TFT液晶屏幕，其实IGZO TFT技术也可以使用在OLED面板上，在这里就不多说了。
薄膜场效应晶体管
利用IGZO技术可以使显示屏功耗接近OLED，但成本更低，厚度也只比OLED只高出25%，且分辨率可以达到全高清(full HD)乃至超高清(Ultra Definition，分辨率4k*2k)级别程度。
IGZO是一种含有铟、镓和锌的非晶氧化物，载流子迁移率是非晶硅的20~30倍，可以大大提高TFT对像素电极的充放电速率，提高像素的响应速度，实现更快的刷新率，同时更快的响应也大大提高了像素的行扫描速率，使得超高分辨率在TFT-LCD中成为可能。另外，由于晶体管数量减少和提高了每个像素的透光率，IGZO显示器具有更高的能效水平，而且效率更高。
IGZO可以利用现有的非晶硅生产线生产，只需稍加改动，因此在成本方面比低温多晶硅更有竞争力。这种具有成本竞争力的高端显示器将在夏普的第8代工厂生产，已经投产。该工厂位于日本龟山市。
薄化行业的小伙伴，经常有听到LTPS、IGZO、OLED等英文缩写名词。但究竟他们是什么意思?他们之间有什么区别呢?小编今天通过一些图文介绍和一段视频对这些知识点进行了简要的总结，希望对大家能有所帮助。
低温多晶硅(LowTemperature Poly-silicon;简称LTPS)是新一代薄膜晶体管液晶显示器(TFT-LCD)的制造流程，与传统非晶硅显示器最大差异在于LTPS 反应速度较快，且有高亮度、高分辨率与低耗电量等优点。
TFT-LCD分为多晶硅与非晶硅两种技术，目前主流TFT-LCD以非晶硅(a-Si) 为主，相关技术较为成熟。LTPS技术就是应用在平面显示器制造上的多晶硅成膜技术。
LTPS在封装过程中，利用准分子雷射作为热源，雷射光经过投射系统后，产生能量均匀分布的激光束，投射于非晶硅结构的玻璃基板上，当非晶硅结构玻璃基板吸收准分子雷射的能量后，会转变成为多晶硅结构，整个处理过程都是在600℃以下完成，因此一般玻璃基板皆可适用。
而LTPS由于晶体管载子移动率高出非晶硅技术一百倍以上，显示器具备高亮度与高分辨率特色，可呈现较佳的画面质量。若使用在笔记本电脑上，LTPS面板的耗电量较少，可省下不少电力。
